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氧含量檢測

產(chǎn)品描述:

晶片在生產(chǎn)過(guò)程中,原本大氣中O2會(huì )和Si產(chǎn)生化學(xué)反應得O2+Si=SiO2(二氧化矽)為原始的氧化層,如果管路的氧含量過(guò)高,原始的氧化層會(huì )超出原本已計算好的厚度,如此會(huì )嚴重影響接下來(lái)各階段的制程。